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托托科技無掩模光刻機

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更新時間：2026-03-10 14:54:25瀏覽次數：37次

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托托科技（蘇州）有限公司

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產品簡介

產地	國產	加工定制	是
適用領域	科研

托托科技無掩模光刻機，是基于DMD無掩模光刻技術打造的精密光學加工設備，突破了傳統(tǒng)有掩模光刻的制版限制，兼具高靈活性、高精度、高效率等核心優(yōu)勢，可覆蓋科學研究、定制化生產、快速原型制造等多場景，廣泛應用于微電子、集成電路、生物醫(yī)藥、光學元件等眾多領域，還針對不同使用需求打造了多系列細分產品，是微納制造領域的核心解決方案。

詳細介紹

托托科技無掩模光刻機，是基于DMD無掩模光刻技術打造的精密光學加工設備，突破了傳統(tǒng)有掩模光刻的制版限制，兼具高靈活性、高精度、高效率等核心優(yōu)勢，可覆蓋科學研究、定制化生產、快速原型制造等多場景，廣泛應用于微電子、集成電路、生物醫(yī)藥、光學元件等眾多領域，還針對不同使用需求打造了多系列細分產品，是微納制造領域的核心解決方案。

核心性能指標，覆蓋多維度加工需求

1. 無掩模靈活設計：省去制版的時間與資金成本，可快速修改圖案、驗證設計想法，大幅縮短研發(fā)迭代周期；

2. 高精度加工：常規(guī)滿足1μm加工精度，適配高精度微納結構制造；

3. 高加工效率：光刻速度可達1200 mm2/min，大尺寸樣品加工效率優(yōu)勢顯著；

4. 超大幅面可選：常規(guī)覆蓋晶圓級加工，定制可實現(xiàn)4 m2超大幅面加工，也支持2米級微納加工；

5. 高階灰度光刻：支持4096階灰度光刻，可精準構建層次復雜、細膩的微觀三維結構，拓展設計可能性。

特色功能，保障加工精準與便捷

1. 直接繪圖：快速繪制圖案，便捷驗證研發(fā)想法；

2. 精準套刻：以綠光為指引光實現(xiàn)光刻前對準預覽，保障套刻精度；

3. 陣列光刻/參數測試：可快速確認工藝參數，節(jié)省實驗與生產時間；

4. 主動對焦：光刻前實時對準，確保每次光刻聚焦清晰，提升加工一致性。

托托科技無掩模光刻機廣泛應用方向，覆蓋多領域微納制造